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电镀工艺与电镀电源之间的秘密

      电镀归于电解加工程,电源的因素必对电镀工艺进程发生直接影响,电镀电源在电镀工艺中有着关键地位。电镀电源和低纹波系数整流电源在电镀生产中的使用,让电镀界同行在挑选整流电源、处理电镀问题、提电镀质量有所协助。

1开关电源

      开关电源具有硅整流器的波形滑润性长处及可控硅整流器的调压便利的长处,电流效率高体积最小,数千安培至上万安培的大功率开关电源已进入作业实用阶段。开关电源其频率已到音频,经过滤波完成低纹波输出更加简单方便。并且稳流、稳压等功效更易完成。因而,开关电源是往后进展的方向。

2、整流器的基本类型

      硅整流器:硅整流器运用历史久,技能老练,现在是整流器主流产品。各种整流电路取得的都是脉动直流电,并非纯直流。为了比较脉动成份的比例,一般用纹波系数来表明,其数值越小,即交流含量越少,越挨近纯直流。每种整流电路的波纹系数各不同。其由大到小的次第为:三相半波整流、三相全波桥式整流或带平衡电抗器的六相双反星形整流。可控硅应用改动可控硅管导通角来调整输出均匀直流大小的一般可控硅整流器,可控硅管输出的是间断脉冲波,其纹波系数受导通角的控制,输出纹波系数大于一般硅整流电路。

3、电镀电源对电镀工艺的影响

      直流电源波形对电镀质量有较大的影响。在各种电镀工艺中,镀铬是被电源波形影响最大的镀种之一。镀铬有必要选用低纹波直流电源,不然光亮区域窄,镀层易发花、发灰。在运用高效镀硬铬添加剂时,发生微裂纹铬层,输出纹波超过时,裂纹不细密且散布不均匀,得不到要求的裂纹数。

      光亮镀铜都有一个规则:从赫尔槽试片上观察,阴极电流密度越大的区域,镀层光亮整平性越优;电流密度越低,光亮整平性越差。企图扩展低电流密度区的亮光区域,一并下降高流密度区亮光度,亮光均匀最好。在实践中,选用相同的配方、工艺条件,应用一样的亮光剂,得到的亮光整平性与亮光区域,却可能呈现较大差别,这与所用直流电源输出纹波系数巨细有很大关系。

      光亮镀镍对整流输出纹波系数需求没有镀铬和亮光酸性镀铜那样高,但也确实需求选用一般低纹波输出直流电源,才可确保亮光镀镍层质量,且能确保后续套铬的质量。

      硫酸盐亮光酸性镀锡自身就是不易镀好的镀种,其原因是大生产中易引进杂质且不好处理(包含四价锡离子)同意温度规模窄,现在亮光剂多数不抱负,该工艺也要求采用低纹波系数直流电源,不然会呈现与亮光酸性镀铜相类似的毛病。

      镀液温升问题:纹波系数大的直流电源及脉冲电源一般会加速温升。纹波系数越大,其谐波量也越大,能产出很多欧姆热,加速了镀液温升,选用平滑直流有低镀槽温度。整流器负荷率对文波系数的作用:作业电流越挨近整流器的额定电流,波形越平滑,挑选整流器时应根据工艺需求输出电源电压挨近最需求值,确保整流电源输出纹波系数一直保持在较低值。

4、脉冲电源设备

      脉冲电源主要是由嵌入式单片计算机等进行操控,所以,除完成脉冲输出之外,一般具有多种操控功用。

      (1) 自动稳流稳压。传统硅整流器电流或电压不能主动安稳,随电网电压的波动而动摇。而脉冲电源则有高精度的主动调,脉冲电源输出电压能够几乎不变。脉冲电源的主动调效通常具有二种形式:一,恒电流限压形式。二,恒电压限流形式。

      (2) 多段式运转形式。铝阳极氧化或硬铬电镀通常要求运行反向电解、大电流冲击、阶梯送电等操作。具有多段式运转形式的脉冲电源则只提早预设作业时可主动按次序进行主动调。这一功能对硬铬电镀是有用的,每段时间可在0255秒内调设定。

      (3) 双向脉冲功能。正负脉冲频率、占空比、正反向输出时均可独立调,运用灵敏、便利。匹配硬铬电镀工艺,获得不一样物理性能的镀层。

      (4) 直流叠加功。输出正反向脉冲电流的时候,由同一台电源叠加输出一纯直流成分,拓宽脉冲电源的使用范围及用处。






      总结:综上描述关于电镀来说,除镀硬铬选用可控硅整流器比较高频电源来说,安稳一些。其他电镀通常都是选用高频脉冲电源,现镀铬也许多选用高频脉冲了,由于可控硅的转化率太低,耗电量太大,算下来不划算。还有一些高质量镀镍,通常输出也要求选用滤波,一般普通电源只输出带了滤波,甚者连输入没带滤波。